全自动接近式光刻机

设备型号:DSI-D-PHA0006-A01

应用范围:电容电感线路图形光刻、LED晶圆



主要特点:

1、设备采用高照度、高均匀性的365纳米紫外光学系统,实现最小1um光刻分辨率(可根据客户需求定制、可选用LED光源) 

2、采用接近式的工作方式(可选接触式、真空式),双工位全自动上下料、24小时持续生产,产能处于业内领先水平

3、独特的电源调节系统配合电驱动式光源调节系统,可连续不间断调节曝光功率,完美适配多种生产场景需求 

4、搭载高精度CCD相机,实现正面1um精确对位,精密的掩膜版/光刻胶间隙(Gap)控制



主要参数:


主要参数加工尺寸曝光尺寸:6"*6"
加工速度>140pcs/h(曝光时间=15s)
>300pcs/h(曝光时间=3s)
加工精度曝光分辨率:3μm (支持客户定制)
平台定位精度X 轴: ±1μm
Y 轴: ±1μm
Z 轴: ±3μm
Theta 轴: 0.1°
激光器参数光源:500W UV Lamp,波长365nm (光源可选UVLED或UV汞灯,支持客户定制)
感光区域:132*132mm (支持客户定制)
工作照度:≥34mw/cm2
光源均匀度:≤3%
曝光均匀度:≤10%
Tact time9s(不包含曝光时间)
稼动率>0.95



加工效果:


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